СреднийV Технологическая геополитика и ИИ15 октября 2026 г., четверг
Шанхайский стартап показал прототип китайского источника EUV-излучения
Langdao Silex на 26-й Китайской международной промышленной ярмарке в Шанхае показала прототип источника излучения — сердца EUV-литографии, на которой печатаются самые передовые чипы. По опубликованным компанией данным, выходная мощность превышает 15 Вт; до серийного производства 3–5 лет.
EUV, или литография в экстремальном ультрафиолете, — технология, которая наносит мельчайшие схемы на кремний излучением с длиной волны 13,5 нм; сегодня коммерчески её продаёт только ASML. Как пишет Xenospectrum 15 октября, маломощный источник Langdao Silex FlintNano LPP-OXXO использует тот же общий метод, что и ASML, — лазерно-индуцированную плазму. Компания указывает лазер накачки мощностью 1000 Вт, частоту повторения 1–20 кГц, эффективность преобразования выше 2% и непрерывную работу свыше 100 часов. Сотрудники стенда заявили, что 90% компонентов произведены в Китае, но неясно, как рассчитана эта доля.
Для сравнения Xenospectrum напоминает, что ASML вышла на производственный уровень в 2018 году с источником мощностью 250 Вт, обрабатывающим 125 пластин в час, в 2022 году показала источник на 500 Вт, а в апреле 2025 года — на 1000 Вт; из-за разных условий измерения цифры нельзя сравнивать напрямую. Мощная серия компании FlintMicro находится на стадии доказательства принципа, маломощная — на стадии вывода продукта. Согласно заметке Pause Hardware от 16 октября, Нидерланды с 2019 года ограничивают продажу EUV-машин ASML в Китай, а шанхайская Yuliangsheng работает над лазером глубокого ультрафиолета на 193 нм.
Оценка Talay
Вывод
Прототип показывает, что Китай продвигается на принципиальном уровне в самом сложном звене цепочки EUV, но между 15 Вт и уровнем 250 Вт, который ASML вывела в производство в 2018 году, лежит огромный инженерный разрыв. Сигнал — не сам источник излучения, а то, что Китай разбивает закрытую для него машину ASML на части и раздаёт их отечественным поставщикам. Наиболее вероятный путь — срок в 3–5 лет растянется, а в ближайшее время Китай продолжит опираться на DUV-машины и многократное экспонирование.
Возможные последствия
- Экспортный контрольНегативно1–6 месяцев
Прогресс в местных компонентах может дать Вашингтону новый довод требовать от союзников ограничить и более старые DUV-машины.
- Китайский рынок ASMLНеопределённоНедели
Поскольку замещение EUV займёт годы, в ближайшее время спрос на DUV-машины, которые ASML продаёт в Китай, сохранится.
- Импортозамещение чипов в КитаеНеопределённоБолее 6 месяцев
Местные поставки источников излучения конкретизируют цель Китая снизить в перспективе зависимость от зарубежных машин на самых передовых техпроцессах.
Вероятные сценарии
- 1Медленный прогресс60 %
Проблемы с мощностью и стабильностью сдвигают серийный выпуск к верхней границе диапазона 3–5 лет, Китай продолжает продвигаться на DUV.
Что отслеживать: Данные о мощности и времени работы мощной серии FlintMicro от Langdao Silex
- 2Давление контроля усиливается30 %
США, ссылаясь на прогресс Китая в собственном EUV, требуют от союзников ограничений на DUV и сервис.
Что отслеживать: Требования Вашингтона об ограничениях DUV и сервиса и лицензионные решения Нидерландов по ASML
- 3Быстрый скачок10 %
Китай раньше ожидаемого интегрирует мощный источник в пилотную линию.
Что отслеживать: Объявление китайской фабрики о пилотной линии на отечественном EUV
Вероятности — это откалиброванное суждение на основе источников, а не измерение; они пересматриваются с появлением новых данных. Не является инвестиционной рекомендацией.
Реакция рынка
Затронутые индикаторы
- Мощность источника EUV▲ 15 Вт+
- До серийного выпуска▼ 3–5 лет