上海初创企业展出国产EUV光源原型机

EUV即极紫外光刻，用13.5纳米波长把最微小的电路印到硅片上，目前只有ASML在商业上出售这种设备。据Xenospectrum 10月15日报道，Langdao Silex的低功率FlintNano LPP-OXXO光源与ASML采用同一种总体方法，即激光等离子体。公司给出的参数为：1000瓦驱动激光器、1至20千赫重复频率、超过2%的转换效率，以及超过100小时的连续运行时间。展会工作人员称其90%的部件为国产，但这一比例的计算依据并不清楚。

作为对照，Xenospectrum提到，ASML在2018年凭借250瓦光源达到每小时处理125片晶圆的量产水平，2022年展示了500瓦光源，2025年4月又展示了1000瓦光源；由于测量条件不同，这些数字无法直接比较。该公司的高功率FlintMicro系列处于原理验证阶段，低功率系列则处于产品化阶段。据Pause Hardware 10月16日的文章，荷兰自2019年起限制ASML向中国出售EUV设备；上海的Yuliangsheng则在研发193纳米深紫外激光器。